用于化妝品研發(fā)的實(shí)驗(yàn)高壓均質(zhì)機(jī)設(shè)備運(yùn)用

發(fā)布日期：2021-06-28      瀏覽次數(shù)：1757

用于化妝品研發(fā)的實(shí)驗(yàn)高壓均質(zhì)機(jī)設(shè)備運(yùn)用

納米乳液 (Nanoemulsions) 也被稱為miniemulsion, ultrafine emulsions, emulsoids, unstable microemulsions, submicrometer emulsions等, 是一種液相的以液滴形式分散于第二相的膠體分散體系。納米乳也是由油相、水相、表面活性劑、助表面活性劑組成, 呈透明或半透明狀, 粒度尺寸在20~500nm之間。與微乳不同的, 它是非熱力學(xué)穩(wěn)定體系, 穩(wěn)定性比微乳體系差, 其分散顆?？赡軙?huì)由于聚結(jié)、絮凝、奧氏熟化等原因而變大, 但相對(duì)于普通乳化液而言, 仍具有抗沉降和乳析的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定特性。而且制備納米乳所需的表面活性劑比微乳要少得多, 這也是納米乳備受關(guān)注的原因之一。由于納米乳是非熱力學(xué)穩(wěn)定體系, 不能自發(fā)形成, 其制備需外界能量的參與, 一般來(lái)自機(jī)械設(shè)備或來(lái)自化學(xué)制劑的結(jié)構(gòu)潛能。利用機(jī)械設(shè)備的能量 (高速攪拌器、高壓均質(zhì)機(jī)和超聲波發(fā)生器) 這類方法通常被認(rèn)為是高能乳化法, 而利用結(jié)構(gòu)中化學(xué)潛能的方法通常被認(rèn)為是濃縮法或低能乳化法。

 

日本SMT均質(zhì)機(jī)LAB1000 / 2000的特點(diǎn)



通過(guò)*開(kāi)發(fā)的閥門(mén)實(shí)現(xiàn)高性能全面追求在現(xiàn)場(chǎng)的易用性

SMT的壓力均質(zhì)機(jī)采用專有的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)超越其他公司產(chǎn)品的高性能和穩(wěn)定運(yùn)行。
用于維護(hù)和修理的零件也很便宜，并且可以減少運(yùn)行和維護(hù)成本。主要特點(diǎn)有以下五點(diǎn)。

 

關(guān)于均質(zhì)機(jī)

采用超高壓機(jī)構(gòu)和閥機(jī)構(gòu)，
實(shí)現(xiàn)均勻細(xì)膩的乳化

典型的乳化裝置，“壓力均化器”是在高壓下均化液體中的物質(zhì)的裝置。通過(guò)均化分子并將液體混合在一起，可以實(shí)現(xiàn)“精細(xì)乳化”。
SMT的壓力均質(zhì)機(jī)包括一個(gè)可產(chǎn)生穩(wěn)定超高壓狀態(tài)的“加壓機(jī)構(gòu)”和一個(gè)可確定均質(zhì)效果的“均質(zhì)閥機(jī)構(gòu)” （圖3）。



圖3：間隙通過(guò)型乳化機(jī)理。C-SIP是可能的，從而減小了擴(kuò)展的風(fēng)險(xiǎn)。
可以進(jìn)行任何數(shù)量的處理并且維護(hù)簡(jiǎn)單

處理前的樣品液（E）以高壓低速進(jìn)入閥座（B），被壓縮并與閥（A）碰撞。當(dāng)樣品流體流入可調(diào)閥（A）和閥座（B）之間的狹窄間隙時(shí)，速度急劇增加，而壓力急劇下降并排出。
以微秒為單位發(fā)生的這種密集的能量轉(zhuǎn)移會(huì)產(chǎn)生劇烈的湍流，當(dāng)顆粒從間隙（D）中彈出時(shí)，該湍流會(huì)將顆粒粉碎并使其均質(zhì)化。它與沖擊環(huán)（C）碰撞，并且均質(zhì)化的樣品液體（F）在下一個(gè)過(guò)程所需的壓力下被排出。
這種均質(zhì)閥有兩種類型，一級(jí)和兩級(jí)，對(duì)于需要粉碎脂肪球的產(chǎn)品，可在使用前將該閥均化為兩級(jí)，從而將二次團(tuán)聚的可能性降到z低。

• 1）均質(zhì)閥的材質(zhì)可以從樣品中選擇* 1
• 2）結(jié)構(gòu)緊湊，可以安裝在工作臺(tái)上，并且可以通過(guò)支架移動(dòng)* 2
• 3）采用低噪音設(shè)計(jì)，在操作過(guò)程中保持較高的安靜度
• 4）可以裝卸“均質(zhì)閥座”和“泵閥座”，并且可以在兩側(cè)使用* 2
• 5）在壓力表上標(biāo)準(zhǔn)安裝了一個(gè)溫度傳感器，可以顯示溫度以檢查效果
  * 1標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品由陶瓷制成* 2僅支持“ LAB1000 / 2000”。